Mag-Chemal

Drap de polissage à utiliser sur un disque de support magnétique.

Pour le polissage final chimique/mécanique de tous les matériaux.

Chemal est un drap en mousse synthétique pour le polissage final avec des suspensions d’oxyde.

Chemal peut être utilisé avec des suspensions d’oxyde acides, alcalines et neutres. Cela comprend les suspensions de silice pyrogénée, les suspensions de silice colloïdale et les suspensions d’alumine.

Utilisez des forces faibles ; 15N sur un échantillon de 30 mm. Pour un résultat optimal, utilisez une grande quantité de suspension afin d’éviter de vous retrouver à sec.

Description

Dimensions disponibles : 200 mm, 250 mm, 300 mm, 350 mm

Contenu disponible : 5 pièces

Drap de polissage magnétique PDS (EN)

Guides d’utilisation du drap de polissage magnétique (EN)

Brochures sur les draps de polissage (EN)

Informations complémentaires

Taille disponible

200 mm, 250 mm, 300 mm, 350 mm

Contenu disponible

5 pièces.

  • Image de la suspension d'alumine 50 nm neutre d'Akasel, bouteille de 1 litre avec un bouchon blanc pour le polissage final des échantillons métallographiques. La suspension peut être mélangée à des agents de mordançage pour renforcer l'action de polissage. Concentration d'alumine 200 g/l, taille médiane des particules 50 nm, pH 7 - 8. Contient un agent anti-séchant. Agiter avant utilisation.

    Polissage à l'oxyde

    Alumina Suspension 50 nm Neutral

  • Akasel Fumed Silica Suspension 0.2 µm WF - Liquide sans eau en bouteille de 1 litre, développé pour les processus de polissage métallographique fin. Parfait pour les matériaux sensibles à l'humidité.

    Polissage à l'oxyde

    Fumed Silica Suspension 0.2 µm WF

  • Akasel's Fumed Silica Suspension 0.2 µm Alkaline, bouteille de 1 litre avec un bouchon blanc pour le polissage final des échantillons métallographiques.

    Polissage à l'oxyde

    Fumed Silica Suspension 0.2 µm Alkaline

  • Suspension de silice colloïdale 50 nm alcaline d'Akasel, flacon de 1 litre avec bouchon blanc pour le polissage final des échantillons métallographiques.

    Polissage à l'oxyde

    Colloidal Silica Suspension 50 nm Alkaline

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