Colloidal Silica Suspension 50 nm Alkaline

Suspension de silice colloïdale pour le polissage final des échantillons métallographiques.

La suspension peut être mélangée à des agents de gravure pour renforcer l’action de polissage.

Concentration de silice 585 g/l
Médiane (50%) 50 nm
pH 9,5 – 10,5

Contient un agent anti-séchant. Agiter avant utilisation

Catégorie :
  • Chiffon de polissage Akasel Aka-Chemal en noir, en mousse synthétique avec un support PSA autocollant. Idéal pour le polissage final en métallographie.

    Polissage métallographique

    Aka-Chemal

  • Chiffon de polissage Akasel Mag-Chemal noir, en mousse synthétique avec support magnétique. Parfait pour le polissage final en métallographie.

    Polissage métallographique

    Mag-Chemal

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