Description
Contenu disponible : 1 l, 5 l
Suspension de silice colloïdale SDS 50 nm (EN)
Brochures sur les produits de polissage des oxydes (EN)
Suspension de silice colloïdale pour le polissage final des échantillons métallographiques.
La suspension peut être mélangée à des agents de gravure pour renforcer l’action de polissage.
Concentration de silice 585 g/l
Médiane (50%) 50 nm
pH 9,5 – 10,5
Contient un agent anti-séchant. Agiter avant utilisation
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Suspension de silice colloïdale SDS 50 nm (EN)
Brochures sur les produits de polissage des oxydes (EN)
Informations complémentaires
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