Se 
En (UK)
De
zh-CN
En (US)
Nl
Beskrivning
Tillgängligt innehåll: 1 l, 5 l
SDS Colloidal Silica Suspension 50 nm (SE)
Oxidpolering Produktbroschyrer (EN)
Colloidal Silica Suspension 50 nm Alkaline
Suspension av kolloidal kiseldioxid för slutlig polering av metallografiska prover.
Suspensionen kan blandas med etsmedel för att förstärka polerverkan.
Koncentration av kiseldioxid 585 g/l
Median (50%) 50 nm
pH 9,5 – 10,5
Innehåller antitorkmedel. Skaka före användning
