Beschreibung
Inhalt verfügbar: 1 l, 5 l
SDS Colloidal Silica Suspension 50 nm (DE)
Oxidpolieren Produktbroschüren
Kolloidale Silicasuspension für die Endpolitur von metallografischen Proben.
Die Suspension kann mit Ätzmitteln gemischt werden, um die Polierwirkung zu verstärken.
Silicakonzentration 585 g/l
Median (50%) 50 nm
pH 9,5 – 10,5
Nicht kristallisierend. Vor Gebrauch schütteln
Dirk Hennemann
Inhalt verfügbar: 1 l, 5 l
SDS Colloidal Silica Suspension 50 nm (DE)
Oxidpolieren Produktbroschüren
Zusätzliche Informationen
| Inhalt verfügbar | 1 l, 5 l |
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