抛光

Metal polishing和其他材料的抛光必须消除研磨过程中发生的变形,并提供高光洁度,使样品能够在显微镜下观察。我们的polishing consumables经过开发和优化,以可承受的价格在最短的时间内提供最好的结果。

metallographic polishing的目的是为了确保样品的真实结构可见,表面光洁度不会影响既定检测。通常可以通过使用合适的抛光布和逐渐更细的磨料分两步或三步完成。这根据是金属抛光还是其他材料类型的抛光来决定。 

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  • DiaUltra-5-m

    Diamond Products

    DiaUltra 15 µm

  • DiaUltra-9-m

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    DiaUltra 9 µm

  • DiaUltra-6-m

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    DiaUltra 6 µm

  • DiaUltra-3-m

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    DiaUltra 3 µm

  • DiaUltra-1-m

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    DiaUltra 1 µm

  • DiaUltra-0.25m

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    DiaUltra 0.25 µm

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    DiaUltra Poly 15 µm

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    DiaUltra Poly 9 µm

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    DiaUltra Poly 6 µm

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    DiaUltra Poly 3 µm

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    DiaUltra Poly 1 µm

  • Diamond Products

    DiaUltra Poly 0.25 µm

抛光布

根据样品材料和制备步骤(如metal polishing),我们提供了大量抛光布供您选择。我们所有的抛光布都有自粘(Aka-)和磁性(Mag-)版本,并可以按照所有标准直径提供。Aka抛光布也可以按定制尺寸生产,直径最大可达1250 mm。我们的抛光布所用的织物均经过精心选择,可确保针对具体的抛光步骤和材料实现最佳的抛光效果。它们与一种耐水、乙醇和油的聚合物阻隔层层压在一起,可保护布料免于磨损,并确保金刚石与样品表面保持良好接触,从而以最低的成本完成快速制备

金刚石产品

我们的polishing consumables包括一系列最高质量的金刚石产品,确保每次都能达到最佳的metallographic polishing效果。我们使用的多晶和单晶金刚石具有非常窄公差的分级以及高浓度,但价格却可以承受。我们的金刚石产品包括2合1金刚石悬浮液、经过精心调制的悬浮液和润滑剂的混合物、与润滑剂一起使用的金刚石悬浮液、金刚石棒、金刚石喷雾剂和金刚石膏。我们的金刚石产品有多晶或单晶金刚石,粒度为15-0.05 µm。

氧化物抛光悬浮液

在最后的抛光步骤中,必须去除最后的变形,此时需要使用亚微米大小的氧化物polishing suspensions。在一般的应用中,可使用氧化铝悬浮液,对于要求更高的应用,硅悬浮液是最好的选择。

润滑剂

除了我们的2合1悬浮液外,所有的金刚石产品在制备过程中均需要添加润滑剂。润滑剂作为润滑和冷却液。根据材料和制备步骤的不同,您可以选择具有高冷却效率的薄润滑剂来实现高材料去除率,或者选择较浓的润滑剂来避免划痕和变形,从而完成对软性材料的无划痕最终抛光。  我们提供范围最广的润滑剂,使您能够选择最适合您的金相抛光步骤的产品。 

我们所有的polishing consumables可用于metal polishing和其他材料的抛光。 

请单击左侧菜单,找到最适合您样品制备的polishing consumable

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